- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
1200℃雙溫區3路浮子供氣高真空CVD系統管式爐采用高清真彩觸控屏操作,簡單易上手,即使是非專業人員經過簡單的培訓也可以熟練掌握儀器的使用方法,能夠極大的提高您的實驗效率。
系統所配有的三路浮子流量計,可以較為準確的配制出實驗所需的混合氣體;另有一壓力表安裝在浮子流量計正面,可以監測氣體壓力及混合槽壓力。
本系統還配有精密分子泵組,可以達到1.0E-3pa級別的真空度,較普通機械泵可以為用戶提供更純凈嚴苛的實驗環境。
適用于高校、科研院所、工礦企業做高溫燒結、金屬退火、質量檢測等,尤其適合需要多種氣體混合的氣氛環境的CVD實驗。
真 空 管 式 爐 |
產品型號 |
CY-CVD1200-50-200×200-3TH-Q |
||
爐管材質 |
高純石英 |
|||
爐管直徑 |
50mm(可選配60mm、80mm、100mm) |
|||
爐管長度 |
1000mm |
|||
爐膛長度 |
440mm |
|||
加熱區長 |
200mm+200mm |
|||
工作溫度 |
0~1100℃ |
|||
控溫精度 |
±1℃ |
|||
控溫模式 |
30段或50段程序控溫 |
|||
顯示模式 |
LCD |
|||
密封方式 |
304不銹鋼真空法蘭 |
|||
法蘭接口 |
1/4英寸卡套接頭、KF16/25/40接頭 |
|||
可抽真空 |
4.4E-3Pa |
|||
供電電源 |
AC:220V 50/60Hz |
|||
供 氣 系 統 |
產品型號 |
CY-3F |
||
氣體通道 |
3通道 |
|||
測量部件 |
氣體浮子流量計 |
|||
測量量程 |
A通道:0~100ml/min H2氣 |
備注:如需其它量程或氣體種類,定貨時需要特別注明。可根據客戶的具體要求來選配對應的氣體種類和量程的流量計。 |
||
B通道:16~160 ml/min N2氣 |
||||
C通道:25~250 ml/min Ar氣 |
||||
測量精度 |
±2.0% |
|||
管道耐壓 |
3MPa |
|||
工作壓差 |
50~300KPa |
|||
連接管道 |
304不銹鋼 |
|||
控制閥門 |
304不銹鋼針閥 |
|||
接口規格 |
進氣口和出氣口為1/4英寸卡套接頭 |
|||
排 氣 系 統 |
產品型號 |
CY-GZK103-A |
||
分子泵 |
CY-600 |
|||
前極泵 |
旋片泵 |
|||
抽氣速率 |
分子泵:600L/S |
綜合抽氣性能:30分鐘真空度可達:1.0E-3Pa |
||
旋片泵:1.1L/S |
||||
抽氣接口 |
KF40 |
|||
排氣接口 |
KF16 |
|||
真空測量 |
復合真空計:電阻規+電離規 |
|||
極限真空 |
1.0E-5Pa |
|||
供電電源 |
AC:220V 50/60Hz |
免責聲明:本站產品介紹內容(包括產品圖片、產品描述、技術參數等),僅供參考。可能由于更新不及時,會造成所述內容與實際情況存在一定的差異,請與本公司銷售人員聯系確認。本站提供的信息不構成任何要約或承諾,本公司會不定期完善和修改網站任何信息,恕不另行通知,請您見諒。