- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
1500℃單溫區3路浮子供氣高真空CVD系統管式爐采用高清真彩觸控屏操作,簡單易上手,即使是非專業人員經過簡單的培訓也可以熟練掌握儀器的使用方法,能夠極大的提高您的實驗效率。爐管采用高純氧化鋁制成,爐體采用一體式設計,獨特的設計能夠保證系統在1500℃運行穩定**,加熱元件采用高品質硅碳棒,能夠達到1500℃高溫,若客戶有需求可以定制硅鉬棒加熱元件以達到更高的1700℃高溫。
系統所配有的三路浮子流量計,可以混合1~3路氣體,較為準確的配制出實驗所需的混合氣體;另有一壓力表安裝在浮子流量計正面,可以監測氣體壓力及混合槽壓力。本系統還配有精密分子泵組,可以達到1.0E-3pa級別的真空度,較普通機械泵可以為用戶提供更純凈嚴苛的實驗環境。
適用于高校、科研院所、工礦企業做高溫燒結、金屬退火、質量檢測等,尤其適合需要多種氣體混合的氣氛環境的CVD實驗。
技術參數:
真
空
管
式
爐
產品型號
CY-CVD1500-60-300-3TH-Q
爐管材質
高純氧化鋁
爐管直徑
60mm(可選配50mm、80mm、100mm)
爐管長度
1000mm
爐膛長度
400mm
加熱區長
300mm
恒溫區長
150mm
工作溫度
≤1450℃
控溫精度
±1℃
控溫模式
30段或50段程序控溫
顯示模式
LCD
密封方式
304不銹鋼真空法蘭
法蘭接口
1/4英寸卡套接頭、KF16/25/40接頭
可抽真空
4.4E-3Pa
供電電源
AC:220V 50/60Hz
供
氣
系
統
產品型號
CY-3F
氣體通道
3通道
測量部件
氣體浮子流量計
測量量程
A通道:0~100ml/min H2氣
備注:如需其它量程或氣體種類,定貨時需要特別注明??筛鶕蛻舻木唧w要求來選配對應的氣體種類和量程的流量計。
B通道:16~160ml/min N2氣
C通道:25~250ml/min Ar氣
測量精度
±2.0%
管道耐壓
3MPa
工作壓差
50~300KPa
連接管道
304不銹鋼
控制閥門
304不銹鋼針閥
接口規格
進氣口和出氣口為1/4英寸卡套接頭
排
氣
系
統
產品型號
CY-GZK103-A
分子泵
CY-600
前極泵
旋片泵
抽氣速率
分子泵:600L/S
綜合抽氣性能:20分鐘真空度可達:1.0E-3Pa
旋片泵:1.1L/S
抽氣接口
KF40
排氣接口
KF16
真空測量
復合真空計:電阻規+電離規
極限真空
1.0E-5Pa
供電電源
AC:220V 50/60Hz
免責聲明:本站產品介紹內容(包括產品圖片、產品描述、技術參數等),僅供參考。可能由于更新不及時,會造成所述內容與實際情況存在一定的差異,請與本公司銷售人員聯系確認。本站提供的信息不構成任何要約或承諾,本公司會不定期完善和修改網站任何信息,恕不另行通知,請您見諒。