- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
1500℃單溫區(qū)3路質(zhì)量流量計(jì)低真空CVD系統(tǒng)管式爐采用高清真彩觸控屏操作,簡單易上手,即使是非專業(yè)人員經(jīng)過簡單的培訓(xùn)也可以熟練掌握儀器的使用方法,能夠極大的提高您的實(shí)驗(yàn)效率。爐管采用高純氧化鋁制成,爐體采用一體式設(shè)計(jì),獨(dú)特的設(shè)計(jì)能夠保證系統(tǒng)在1500℃運(yùn)行穩(wěn)定**,加熱元件采用高品質(zhì)硅碳棒,能夠達(dá)到1500℃高溫,若客戶有需求可以定制硅鉬棒加熱元件以達(dá)到更高的1700℃高溫。系統(tǒng)所配有的三路質(zhì)量流量計(jì),精度高可靠性強(qiáng),可以準(zhǔn)確混合1~3路氣體,操作面板采用數(shù)字顯示,直觀高效。若客戶有特殊需要也可聯(lián)系技術(shù)人員定制任意數(shù)量的氣路。
適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫?zé)Y(jié)、金屬退火、質(zhì)量檢測等,尤其適合需要多種氣體混合的氣氛環(huán)境的CVD實(shí)驗(yàn)。
技術(shù)參數(shù):
真
空
管
式
爐
產(chǎn)品型號
CY-CVD1500-60-300-3TH-Q
爐管材質(zhì)
高純氧化鋁
爐管直徑
60mm(可選配50mm、80mm、100mm)
爐管長度
1000mm
爐膛長度
400mm
加熱區(qū)長
300mm
恒溫區(qū)長
150mm
工作溫度
≤1450℃
控溫精度
±1℃
控溫模式
30段或50段程序控溫
顯示模式
LCD
密封方式
304不銹鋼真空法蘭
法蘭接口
1/4英寸卡套接頭、KF16/25/40接頭
可抽真空
4.4E-3Pa
供電電源
AC:220V 50/60Hz
供
氣
系
統(tǒng)
產(chǎn)品型號
CY-3Z
氣體通道
3通道
測量部件
氣體質(zhì)量流量計(jì)
測量量程
A通道:0~100SCCM H2氣
備注:如需其它量程或氣體種類,定貨時需要特別注明。可根據(jù)客戶的具體要求來選配對應(yīng)的氣體種類和量程的流量計(jì)。
B通道:0~300SCCM N2氣
C通道:0~500SCCM Ar氣
測量精度
±1.0%F.S
管道耐壓
3MPa
工作壓差
50~300KPa
連接管道
304不銹鋼
控制閥門
304不銹鋼針閥
接口規(guī)格
進(jìn)氣口和出氣口為1/4英寸卡套接頭
供電電源
AC:220V 50/60Hz
排
氣
系
統(tǒng)
機(jī)械泵
旋片泵
抽氣速率
1.1L/S
排氣接口
KF16
真空測量
電阻規(guī)
極限真空
1.0E-1Pa
供電電源
AC:220V 50/60Hz
抽氣接口
KF16
免責(zé)聲明:本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等),僅供參考。可能由于更新不及時,會造成所述內(nèi)容與實(shí)際情況存在一定的差異,請與本公司銷售人員聯(lián)系確認(rèn)。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾,本公司會不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息,恕不另行通知,請您見諒。