- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
雙溫區CVD系統適用于高校、科研院所、工礦企業做高溫燒結、金屬退火、質量檢測等,尤其適合需要多種氣體混合的氣氛環境的CVD實驗。
雙溫區CVD系統產品規格:
主要技術參數 |
||
雙 溫 區 管 式 爐 |
顯示模式 |
7英寸觸摸屏 |
真空控制 |
可通過參數設置,自動完成抽真空,恒壓工作 |
|
爐管材料 |
高純石英 |
|
爐管尺寸 |
直徑:50mm,長度1000mm |
|
加熱溫區 |
兩溫區 |
|
溫區長度 |
200mm+200mm |
|
工作溫度 |
室溫~1100℃ |
|
控溫精度 |
±1℃ |
|
升溫速率 |
建議10℃/min |
|
控溫模式 |
可編程程序控溫 |
|
密封方式 |
真空法蘭密封 |
|
雙通道質量流量計 |
氣體通道 |
兩通道 |
測量儀器 |
質量流量計 |
|
A路量程 |
氫氣:0~500SCCM |
|
B路量程 |
氬氣:0~1000SCCM |
|
連接管道 |
拋光不銹鋼管 |
|
氣體緩沖器 |
1000ml |
|
工作壓力 |
≦3Mpa |
|
工作壓差 |
0.3MPa |
|
管道接口 |
6.35mm卡套接頭 |
|
真空泵 |
抽氣接口 |
KF25 |
排氣接口 |
KF25 |
|
抽氣速率 |
24立方米/小時 |
|
極限真空 |
5.0E-2Pa |
|
電機功率 |
1100W |
|
電機轉速 |
1440轉/分鐘 |
|
真空計 |
傳感器類型 |
皮拉力 |
真空量程 |
1.0E-1Pa~1.0E5Pa |
|
安裝方式 |
豎直放置 |
|
工作電壓 |
DC24V |
|
相關配件 |
連接管道 |
KF25波紋管1米長 |
聚四氟管5米 |
||
石英爐管1根 |
||
爐管塞子4個 |
||
爐鉤1支 |
||
防護手套1雙 |
||
真空法蘭1套(帶密封圈、針閥、氣路接頭) |