- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
產品介紹:
1L等離子清洗機13.56MHz采用純凈的石英腔體,主機頻率13.56MHz,可用于多種材料的高效清洗。清洗效果遠遠優于40KHz的低頻清洗。臺式高效等離子清洗機可用于手機屏幕、儀表屏幕等精密部件的高效清洗,也可用于材料表面的親水性處理。1L等離子清洗機13.56MHz是材料制備過程中****的理想產品。
使用范圍:
(1)表面清洗
材料表面嘗嘗會有油脂、油污等有機物及氧化層,在粘合、焊接前,需要用等離子處理來得到完全潔凈和無氧化層的表面。適用于金屬、玻璃、陶瓷燈多種材料。
(2)表面活化
塑料、玻璃、陶瓷與聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚四氟(PTFE)等一樣是沒有極性的,因此這些材料在印刷、粘合、涂覆前要進行處理。在惰性材料表面生成活性基團,增強表面極性,提高表面能。等離子處理與灼燒處理相比,不會損害樣品,同時還可以十分均勻地處理整個表面,不會產生有毒煙氣,盲孔和帶縫隙的樣品也可以處理。
(3)表面刻蝕
在等離子刻蝕過程中,通過處理 氣體的作用,被刻蝕物會變成氣化物(例如在使用氟氣對硅刻蝕時)。處理 氣體和基體氣化物質被真空泵抽出,表面連續被新鮮的處理 氣體覆蓋。無需刻蝕部分應使用相應材料覆蓋起來(例如半導體行業用鉻做覆蓋材料。)
(4)表面接枝與聚合
在等離子體表面活化產生的基團或等離子體引發聚合層不能與材料表面牢固結合時,采用等離子體接枝的方法來改善。等離子體接枝的原理為:首先利用表面活化在材料表面產生新的活性基團,利用此基團與后續的活性物質產生化學共價鍵結合,后續的活性物質中帶有能夠滿足應用的特定基團,以達到既能滿足表面特性又能牢固結合的目的。
主要參數:
主要部件
指標名稱
參數指標
清洗倉體
清洗倉材質
高純石英
清洗倉尺寸
直徑100mm;長度270mm
射頻電源
電源特性
該電源為全固態射頻電源,采用高穩定高可靠的功放模塊和直流模塊,有效保障了電源的射頻功率輸出。采用高質量的電子元器件,使產品的可靠性得以保證。
電源優勢
●可長時間正常運行
● 電源效率高、發熱少
射頻功率
0~300W連續可調
信號頻率
13.56MHz ±0.005%
反射功率
≤100W
功率穩定度
±0.1%
射頻接頭
N型頭
整機效率
≥75%
諧波分量
≤-50 dBc
冷卻方式
強制風冷
氣體測量
測量部件
浮子流量計
氣體通道
兩通道
A通道量程
10~100ml
B通道量程
16~160ml
真空獲取
真空測量
數字真空計(電阻規)
真空抽取
雙極旋片泵
電機轉速
50Hz時為:1440;60Hz時為:1720。
抽氣速率
50Hz時為:240L/Min;60Hz時為:288L/Min。
真空量程
0.1Pa~10000Pa
極限真空
0.5Pa
電機噪音
≤56dB
管道接口
進氣口:KF16;排氣口KF16.
連接管道
KF16真空波紋管
真空閥門
電機功率
400W
其它
供電電源
AC220V 50/60Hz
整機功率
800W
使用溫度
-10℃ -- 40℃
工作真空
≤40Pa
整機尺寸
540mmX650mmX440mm
整機重量
58kg(含包裝)
● 操作簡單靈活
● 具有完善的反射功率保護功能
產品特點:
1) 采用觸摸屏控制,輸出功率連續可調;
2) 可實現定時關機;
3) 實時真空壓力檢測;
4) 輸出功率實時檢測,無輸出報警。
等離子體產生原理:
在真空狀態下(約10~100Pa),給氣體施加電場,氣體在電場提供的能量下會由氣態轉變為等離子體狀態(也成物質的第四態)。其中含有大量的電子、離子、光子和各類自由基等活性粒子。等離子體表面改性技術就是利用這些高能粒子和活性粒子與材料表面發生物理或化學的反應,從而達到改變材料表面性質的目的。
注:部分資料來源網絡,如需刪除請聯系鄭州成越科學儀器進行刪除。