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緊湊型直流磁控濺射鍍膜儀應(yīng)用領(lǐng)域：
緊湊型直流磁控濺射鍍膜儀設(shè)計主要是制作一些金屬薄膜，制膜面積可達(dá)到4英寸。設(shè)備外形小巧，性價比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設(shè)備，可選配各種金屬靶材和真空泵搭配設(shè)備使用。
緊湊型直流磁控濺射鍍膜儀技術(shù)規(guī)格：
產(chǎn)品名稱
桌面型單靶磁控鍍膜儀
產(chǎn)品型號
CY-MSZ180-I-DC-Q
樣品臺
外形尺寸
φ100mm
加熱溫度
≦500℃
可調(diào)轉(zhuǎn)速
≦20rpm
磁控靶槍
配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm
真空腔體
腔體尺寸
φ180mm X 215mm
觀察窗口
全向透明
腔體材料
高純石英
開啟方式
上蓋拆卸式
真空系統(tǒng)
前級泵
低噪音雙極旋片泵
分子泵
低噪音大抽速渦輪分子泵
真空測量
復(fù)合真空計，量程:10-5~105Pa
抽氣接口
KF16
抽氣接口
KF40
排氣接口
KF16
系統(tǒng)真空
1.0×10-4Pa
供電電源
AC
220V 50/60Hz
抽氣速率
分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s
電源配置
電源數(shù)量
直流電源一套
輸出功率
≦150W
其他參數(shù)
供電電壓
AC220V,50Hz
整機(jī)功率
2kW
整機(jī)尺寸
550mm
X 350mm X400mm
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