- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
CY-MSH300- II-DCDC-SS雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流)為我公司研發的實驗室專用鍍膜儀,設備可選配直流電源,和射頻電源,功率從500W-1000W不等,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優點,鍍膜速率高,樣品溫升低,是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層,水冷機能夠有效的帶走熱量,避免熱量在靶面聚集,使磁控鍍膜能長時間穩定工作。
設備經過緊湊化設計,實現了體積與性能的平衡,造型美觀功能齊全。整機均采用觸控屏控制,內置一鍵式鍍膜程序,操作簡單易上手,是一款實驗室制備薄膜的理想設備。
技術參數:
項目 |
明細 |
|
產品型號 |
CY-MSH300- II-DCDC-SS |
|
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
|
整機功率 |
4KW |
|
系統真空 |
≦5×10-4Pa |
|
樣品臺 |
外形尺寸 |
φ185mm |
加熱溫度 |
≦500℃ |
|
控溫精度 |
±1℃ |
|
可調轉速 |
≦20rpm |
|
磁控靶槍 |
靶材尺寸 |
直徑Φ50.8mm,厚度≦3mm |
冷卻模式 |
循環水冷 |
|
水流大小 |
不小于10L/Min |
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
直徑φ325mm,高度500mm |
腔體材質 |
SUU304不銹鋼 |
|
觀察窗口 |
直徑φ100mm |
|
開啟方式 |
頂開式 |
|
氣體控制 |
1路質量流量計用于控制Ar流量,量程為:200SCCM |
|
真空系統 |
配分子泵系統1套,氣體抽速600L/S |
|
膜厚測量 |
可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ? |
|
濺射電源 |
直流電源500W*2 |
|
控制系統 |
CYKY自研專業級控制系統 |
|
設備尺寸 |
600mm × 650mm × 1280mm |
|
設備重量 |
350kg |