- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
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- 靜電紡絲
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- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
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- 提拉涂膜機(jī)
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- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
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- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
技術(shù)參數(shù):
產(chǎn)品型號 |
金屬熔煉封管爐 |
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產(chǎn)品型號 |
CY-DHLΦ200-SS-Φ4-F |
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主要特點(diǎn) |
該設(shè)備具有體積小,性能穩(wěn)定,操作簡單方便等優(yōu)點(diǎn)。 |
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技術(shù)參數(shù) |
電弧熔煉室:φ200mm×300mm。選用上等不銹鋼板表面經(jīng)過電化學(xué)方法處理。 |
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熔煉樣品 |
重量≤15克(以不銹鋼標(biāo)定)/每熔煉池,共4個熔煉工位 |
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封管工位 |
可焊接鉭管直徑φ5-φ14mm,長度50-100mm;工位自動旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速可調(diào)0-45rpm。 |
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真空度 |
標(biāo)配的機(jī)械泵為:6.0E-1Pa。如果另配分子泵能達(dá)到5.0E-3Pa(標(biāo)配不提供真空計) |
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起弧方式 |
高頻引弧 |
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額定輸入電量 |
10.4 KVA |
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冷卻方式 |
循環(huán)水冷卻 |
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產(chǎn)品規(guī)格 |
主機(jī)凈重:50kg |
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標(biāo)準(zhǔn)配件 |
熔煉爐主機(jī) |
1套 |
氬弧焊機(jī) |
1臺 |
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冷水機(jī) |
1臺 |
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爐架 |
1臺 |
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真空泵 |
1臺 |
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可選配件 |
吸鑄配件 (需購買時可聯(lián)系我司銷售) |
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應(yīng)用注意事項 |
1.任何過程中不要松動外螺母,否側(cè)會造成電極漏水。 2.整機(jī)應(yīng)放置于干燥、潔凈的環(huán)境中。 3.應(yīng)定期檢查管路是否通暢并及時**水垢。電極桿中間的活動關(guān)節(jié)球需要經(jīng)常涂抹一些真空脂。這有助于減少密封圈的磨損,提高桿的靈活性,并且能增加熔煉室的密封效果。 4.熔煉室應(yīng)保持清潔,尤其是前后觀察窗,銅坩堝等重要部位。設(shè)備在不使用時需要抽至真空狀態(tài)保存。 |