本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快溫升低等特點。真空腔體整體采用下置靶設計，濺射效果好，雜質污染少，能*大限度的保護樣品。

桌面型靶下置型磁控鍍膜技術參數：

產品名稱	桌面型靶下置型磁控鍍膜儀
產品型號	CY-MSZ180X-I-DC-SS
樣品臺	外形尺寸	φ100mm
	加熱溫度	≦500℃
	可調轉速	≦20rpm
磁控靶槍	配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm
真空腔體	腔體尺寸	φ180mm X215mm
	觀察窗口	全向透明
	腔體材料	304不銹鋼
	開啟方式	上蓋拆卸式
真空系統	前級泵	低噪音雙極旋片泵
	分子泵	低噪音大抽速渦輪分子泵
	真空測量	復合真空計，量程:10-5~105Pa
	抽氣接口	KF16
	抽氣接口	KF40
	排氣接口	KF16
	系統真空	1.0×10-4Pa
	供電電源	AC 220V 50/60Hz
	抽氣速率	分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s
電源配置	電源數量	直流電源一套
	輸出功率	500W
其他參數	供電電壓	AC220V,50Hz
	整機功率	2kW
	整機尺寸	550mm X 350mm X400mm